3C工程生產過程中使用了大量有機和無機物，包括許多有毒有害物質，對環(huán)境危害較為嚴重，如不加以控制，將會產生較大的環(huán)境污染。半導體行業(yè)中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機物成分。 在工藝過程中，這些有機溶劑大部分通過揮發(fā)成為廢氣排放。
澳納森環(huán)保針對3C工廠的廢氣處理一般采用噴淋吸收、吸附、焚燒或多種相結合的處理方法。 酸、堿廢氣一般采用相應的堿液吸收和酸液吸收進行處理；低濃度、大風量、成分復雜的有機廢氣，一般采用吸附—催化燃燒法或沸石轉輪濃縮+蓄熱燃燒爐，凈化效率達到90％以上，濃縮比達20﹕1，運行費用較低，設備處理風量大，占地面積小，不產生二次污染，可持續(xù)脫附并處理污染物。
【廢氣風量】：90000m3/h
【廢氣濃度】：100~450mg/m3
【廢氣組分】：醛類、氨、三甲胺、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫
【采用工藝】：沸石轉輪+rto焚燒爐
每一次方案提供都是依據客戶需要，按照客戶實際情況，結合當地環(huán)評，設計出優(yōu)性價比方案，切實解決客戶污染問題
每一次我們不保證提供最低價格方案，但每一次我們都保證提供優(yōu)秀的產品品質，服務。
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